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製品情報
半導体製造装置関連
クリーンルーム（クラス5000対応）を完備し半導体前工程用製造装置関連の製造を多く手掛けております。
- 枚葉アッシング装置
- 枚葉プラズマ窒化・酸化装置
- 枚葉アニール装置
- バッチ式成膜装置
- プラズマ真空装置
- プラズマCVD装置
- プラズマエッチング装置
- 有機ELディスプレイ装置
インフラ関連
- ダム系監視操作表⽰器
- ダム⽔位、放流監視システム
- 新幹線装置盤
- シュルター配電盤
- 放送局向けシミュレータ
- デジタル放送装置
⾞載⽤試験装置関連
- 制御系ユニット
- 操作系ユニット
- 変換ユニット
アッシング装置
半導体ウェーハプロセスにおいてウェーハ上に回路を作るマスクとして使用するフォトレジストを剥離する装置です。
用途に合わせてお選びいただけます。
ウエハサイズは150mm、200mmに対応しています。
MG6500R
MG8500R
製品の特徴
- 省フットプリント機能
- 制御ラックユニットのコンパクト化によるコスト改善が可能
- Ethernetを採⽤したノイズ対策強化や省配線化などの通信系統の改良化
- 搬送系新規オリジナル設計による、直動式シングルアーム型の搬送ロボットの最適化
- PLC制御を採によるPＣモデルチェンジ収束問題、HDD故障の回避
- ハイスループット
- 低ダメージバッチプラズマアッシングシステムの実現
製品詳細
MG6500R
| 処理ウエハーサイズ | 150㎜(6インチ)、オプション125㎜(5インチ)兼用可 |
|---|---|
| 処理方法 | 同軸バレル方式 |
| RF電源 | 1kW 13.56MHz オートチューニング |
| プロセスガス | O2 |
| パージガス | N2 |
| 処理ステップ | 3ステップ(128レシピ) |
| 処理室 | 円筒・縦型石英チャンバー |
| ウェハー搬送ユニット | 垂直動作力セットエレベータ 垂直動作シングルアーム2フィンガー吸着方式クリーンロボ |
| スループット | >50枚/時間以上 |
| ユティリテイ |
電源:φ3 200V 真空ポンプ:10.000L/min O2:0.2MPa | N2:0.3MPa | CDA:0.5MPa フィンガー吸着:-80〜-60KPa |
| 本体寸法(mm) | 600W×1300D×1780H |
| 制御ラック寸法(mm) | 550W×650D×745H |
| 重量(kg) | 300(本体装置),120(制御ラック) |
MG8500R
| 処理ウエハーサイズ | 200mm(8インチ) |
|---|---|
| 処理方法 | 同軸バレル方式 |
| RF電源 | 2kW 13.56MHz オートチューニング |
| プロセスガス | O2 |
| パージガス | N2 |
| 処理ステップ | 3ステップ(128レシピ) |
| 処理室 | 円筒・縦型石英チャンバー |
| ウェハー搬送ユニット | 垂直動作力セットエレベータ 垂直動作シングルアーム2フィンガー吸着方式クリーンロボ |
| スループット | >50枚/時間以上 |
| ユティリテイ |
電源:φ3 200V 真空ポンプ:10.000L/min O2:0.2MPa | N2:0.3MPa | CDA:0.5MPa 冷却水：6L/min以上 0.5ＭPa以下 フィンガー吸着:-80〜-60KPa |
| 本体寸法(mm) | 850W×1200D×1950H |
| 制御ラック寸法(mm) | 550W×650D×835H |
| 重量(kg) | 500(本体),120(制御ラック) |